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Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS

SCIE
Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS
簡稱:J MICRO-NANOLITH MEM
期刊ISSN:1932-5150
大類研究方向:工程技術
影響因子:1.193
數據庫類型:SCIE
是否OA:No
出版地:UNITED STATES
年文章數:77
小類研究方向:工程技術-工程:電子與電氣
審稿速度:較慢,6-12周
平均錄用比例:容易

官方網站:http://www.spie.org/publications/journals/journal-of-micro/nanolithography-mems-and-moems

投稿網址:https://jm3.msubmit.net/cgi-bin/main.plex

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Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS

英文簡介

The Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS (JM3) publishes papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, MEMS, MOEMS, and photonics industries. The wide range of such devices includes biomedical microdevices, microfluidics, sensors and actuators, adaptive optics, and digital micromirrors. The scope is broad to facilitate synergy and interest between the communities served by the journal.

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS

中文簡介

《微納米光刻機MEMS和MOEMS雜志》(JM3)發表了有關光刻、制造、包裝和集成技術的科學、發展和實踐的論文,以滿足電子、MEMS、MOEMS和光子學行業的需要。這類裝置的范圍很廣,包括生物醫學微裝置、微流體、傳感器和執行器、自適應光學和數字微鏡。范圍廣泛,有助于促進期刊服務的社區之間的協同作用和利益。

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